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蒸发镀膜设备
镀膜
高真空蒸发设备ei系列,是可以在在基板上进行镀金属和氧化物膜的设备。 操作屏上自动进行集中控制排气操作,成膜操作,适用于研究、开发和少量生产。
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金属溅射设备
金属溅射
枚叶式磁控溅射设备SME-200系列可以搭载多个工艺室(最大3室的200E,最大5室的200J,以及最大7室的200)多腔体磁控溅射设备。
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MEMS溅射设备
SME
通过搬送室,工艺模组多种组合,可对应多种多样的镀膜用途(Metal、PZT、BST、AlN、SiNx、Al2O3)的LoadLock式磁控溅射设备。
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扇出型封装设备
镀膜设备
用于RDL面板级封装,PCB中接板,可自动装载,3个工艺腔, 预锁腔, 脱气系统,实现低温工艺的冷却系统,可选择双面/单面镀膜,均匀性<±10% E.E.10mm
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离子注入设备
离子注入
离子注入设备IH-860搭载了高温ESC,是一款SiC量产用高能量离子注入设备。
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